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伯东公司供应射频离子源 RFICP 系列
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美国 KRI 射频离子源 RFICP 380
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伯东代理射频离子源 RFICP 380
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准大口径射频离子源 RFICP 380上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极
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KRi 射频离子源 RFICP 100 应用于国产离子束溅射镀膜机 IBSD
.射频离子源 RFICP 系列技术参数:型号RFICP 40RFICP 100RFICP 140RFICP 220RFICP 380Discharge 阳极RF 射频RF 射频RF 射频RF 射频RF
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伯东公司供应射频离子源 RFICP 140
mA 离子流KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:型号RFICP 140Discharge 阳极RF 射频离子束流最大 600 mA离子动能100-1200 V栅极直径14 cm
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伯东公司供应射频离子源 RFICP 100
400 mA.KRI 射频离子源 RFICP 100 技术参数型号RFICP 100Discharge 阳极RF 射频离子束流>350 mA, 可以达到 400 mA离子动能100-1200 V栅极
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射频离子源 RFICP 40 伯东公司供应
射频离子源 RFICP 40 技术参数:型号RFICP 40Discharge 阳极RF 射频离子束流>100 mA离子动能100-1200 V栅极直径4 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射
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伯东公司供应射频离子源 RFICP 220
离子源 RFICP 220 技术参数:型号RFICP 220Discharge 阳极RF 射频离子束流>800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射
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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 成功用于多靶磁控溅射镀膜机
某 OEM 厂商为了提高镀膜机镀膜的品质, 其为客户搭建的多靶磁控溅射镀膜机的溅射源采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380, 清洗源采用 KRI 霍尔离子源 Gridless eH
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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 制备 NGZO 薄膜
制备 NGZO 薄膜. 伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:型号RFICP140DischargeRFICP 射频离子束流>600 mA离子动能100-1200 V栅极直径14
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